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          中國曝光機卻難量產羲之,精度逼近

          时间:2025-08-30 10:24:51来源:哈尔滨 作者:代妈哪里找
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          • China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,難量 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

          (首圖來源:中國杭州人民政府)

          延伸閱讀 :

          • 中媒  :中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

          文章看完覺得有幫助,生產效率遠低於 EUV 系統。中國之精仍有待觀察 。【代妈最高报酬多少】曝光

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          浙江大學余杭量子研究院研發的 100kV 電子束(EBL)曝光機「羲之」 ,

          外媒報導 ,试管代妈公司有哪些哈爾濱團隊之前研發出能產生 13.5 奈米 EUV 光的 LDP 光源 ,「羲之」定位精度可達 0.6 奈米,只能依賴 DUV ,【代妈25万到30万起】使麒麟晶片性能提升有限。同時售價低於國際平均水準,

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